Epiksiaalisessa kasvussa ja kiekkojen käsittelyssä käytettävien kiekkojen kantajien on kestettävä korkeita lämpötiloja ja kovaa kemiallista puhdistusta. Semicorex SiC Coated PSS Etching Carrier on suunniteltu erityisesti näitä vaativia epitaksilaitteita varten. Tuotteillamme on hyvä hintaetu ja ne kattavat monet Euroopan ja Amerikan markkinat. Odotamme innolla tulevaa pitkäaikaiseksi kumppaniksesi Kiinassa.
Ei vain ohutkalvopinnoitusvaiheita, kuten epitaksia tai MOCVD:tä, tai kiekkojen käsittelyprosesseja, kuten etsausta, varten Semicorex toimittaa erittäin puhdasta piikarbidipinnoitettua PSS-etsausalustaa, jota käytetään kiekkojen tukemiseen. Plasmaetchissä tai kuivaetchissä nämä laitteet, epitaksisuskeptorit, pannukakku- tai satelliittialustat MOCVD:tä varten, altistetaan ensin kerrostumisympäristölle, joten sillä on korkea lämmön- ja korroosionkestävyys. SiC Coated PSS Etching Carrierilla on myös korkea lämmönjohtavuus ja erinomaiset lämmönjako-ominaisuudet.
SiC-pinnoitettuja PSS (Patterned Sapphire Substrate) etsausalustoja käytetään LED (Light Emitting Diode) -laitteiden valmistuksessa. PSS-etsausalusta toimii substraattina ohuen galliumnitridikalvon (GaN) kasvulle, joka muodostaa LED-rakenteen. Tämän jälkeen PSS-etsausalusta poistetaan LED-rakenteesta märkäetsausprosessilla, jolloin jäljelle jää kuvioitu pinta, joka parantaa LEDin valonpoistotehokkuutta.
SiC-pinnoitetun PSS-etsausalustan parametrit
CVD-SIC-pinnoitteen tärkeimmät tiedot |
||
SiC-CVD-ominaisuudet |
||
Kristallirakenne |
FCC β -vaihe |
|
Tiheys |
g/cm³ |
3.21 |
Kovuus |
Vickersin kovuus |
2500 |
Jyvän koko |
μm |
2~10 |
Kemiallinen puhtaus |
% |
99.99995 |
Lämpökapasiteetti |
J·kg-1 ·K-1 |
640 |
Sublimaatiolämpötila |
℃ |
2700 |
Feleksuaalinen voima |
MPa (RT 4-piste) |
415 |
Youngin moduuli |
Gpa (4 pt bend, 1300â) |
430 |
Lämpölaajeneminen (C.T.E) |
10-6K-1 |
4.5 |
Lämmönjohtokyky |
(W/mK) |
300 |
Erittäin puhtaan SiC-päällystetyn PSS-etsaustelineen ominaisuudet
- Sekä grafiittisubstraatilla että piikarbidikerroksella on hyvä tiheys ja niillä voi olla hyvä suojaava rooli korkeissa lämpötiloissa ja syövyttävissä työympäristöissä.
- Yksikiteiden kasvattamiseen käytetyllä piikarbidilla päällystetyllä suskeptorilla on erittäin korkea pinnan tasaisuus.
- Pienennä lämpölaajenemiskertoimen eroa grafiittisubstraatin ja piikarbidikerroksen välillä, paranna tehokkaasti sidoslujuutta halkeilun ja delaminoitumisen estämiseksi.
- Sekä grafiittisubstraatilla että piikarbidikerroksella on korkea lämmönjohtavuus ja erinomaiset lämmönjako-ominaisuudet.
- Korkea sulamispiste, korkean lämpötilan hapettumisenkestävyys, korroosionkestävyys.