Semicorex PSS Etching Carrier Plate for Semiconductor on erityisesti suunniteltu korkeita lämpötiloja ja ankaria kemiallisia puhdistusympäristöjä varten, joita tarvitaan epitaksiaaliseen kasvuun ja kiekkojen käsittelyprosesseihin. Ultrapuhdas PSS-etsauskantolevymme Semiconductorille on suunniteltu tukemaan kiekkoja ohutkalvopinnoitusvaiheiden aikana, kuten MOCVD- ja epitaksisuskeptorit, pannukakku- tai satelliittialustoja. SiC-pinnoitetulla alustallamme on korkea lämmön- ja korroosionkestävyys, erinomaiset lämmönjako-ominaisuudet ja korkea lämmönjohtavuus. Tarjoamme asiakkaillemme kustannustehokkaita ratkaisuja, ja tuotteemme kattavat useat Euroopan ja Amerikan markkinat. Semicorex odottaa innolla olevansa pitkäaikainen kumppanisi Kiinassa.
Semicorexin PSS Etching Carrier Plate for Semiconductor on ihanteellinen ratkaisu ohutkalvopinnoitusvaiheisiin, kuten MOCVD, epitaksisuskeptorit, pannukakku- tai satelliittialustoille ja kiekkojen käsittelyyn, kuten etsaukseen. Ultrapuhdas grafiittikannatin on suunniteltu tukemaan kiekkoja ja kestämään kovaa kemiallista puhdistusta ja korkeita lämpötiloja. SiC-päällysteisellä kantoaineella on korkea lämmön- ja korroosionkestävyys, erinomaiset lämmönjako-ominaisuudet ja korkea lämmönjohtavuus. Tuotteemme ovat kustannustehokkaita ja niillä on hyvä hintaetu.
Ota meihin yhteyttä jo tänään saadaksesi lisätietoja puolijohteiden PSS-etsauskantolevystämme.
Semiconductorin PSS-etsauskantolevyn parametrit
CVD-SIC-pinnoitteen tärkeimmät tiedot |
||
SiC-CVD-ominaisuudet |
||
Kristallirakenne |
FCC β -vaihe |
|
Tiheys |
g/cm³ |
3.21 |
Kovuus |
Vickersin kovuus |
2500 |
Jyvän koko |
μm |
2~10 |
Kemiallinen puhtaus |
% |
99.99995 |
Lämpökapasiteetti |
J·kg-1 ·K-1 |
640 |
Sublimaatiolämpötila |
℃ |
2700 |
Feleksuaalinen voima |
MPa (RT 4-piste) |
415 |
Youngin moduuli |
Gpa (4 pt bend, 1300â) |
430 |
Lämpölaajeneminen (C.T.E) |
10-6K-1 |
4.5 |
Lämmönjohtokyky |
(W/mK) |
300 |
PSS Etching Carrier Plate for Semiconductor -levyn ominaisuudet
- Vältä irroitumista ja varmista, että kaikki pinnat ovat pinnoitettuja
Korkean lämpötilan hapettumiskestävyys: Stabiili korkeissa lämpötiloissa aina 1600°C asti
Korkea puhtaus: valmistettu CVD-kemiallisella höyrypinnoituksella korkean lämpötilan kloorausolosuhteissa.
Korroosionkestävyys: korkea kovuus, tiheä pinta ja hienojakoisia hiukkasia.
Korroosionkestävyys: happo, alkali, suola ja orgaaniset reagenssit.
- Saavuta paras laminaarinen kaasuvirtauskuvio
- Takaa lämpöprofiilin tasaisuus
- Estä kontaminaatio tai epäpuhtauksien leviäminen