PSS-käsittelyteline kiekkojen siirtoon

Semicorexin PSS Handling Carrier for Wafer Transfer on suunniteltu vaativimpiin epitaksilaitteiden sovelluksiin. Äärimmäisen puhdas grafiittitelineemme kestää kovia ympäristöjä, korkeita lämpötiloja ja kovaa kemiallista puhdistusta. SiC-päällysteisellä kantoaineella on erinomaiset lämmönjako-ominaisuudet, korkea lämmönjohtavuus ja se on kustannustehokas. Tuotteitamme käytetään laajasti monilla Euroopan ja Amerikan markkinoilla, ja odotamme innolla tulevaa pitkäaikaiseksi kumppaniksi Kiinassa.

Lähetä kysely

Tuotteen Kuvaus

Semicorexin kiekkojen siirtoon tarkoitettu PSS Handling Carrier on suunniteltu täyttämään epitaksiaalisen kasvun ja kiekkojen käsittelyprosessien korkean lämpötilan ja ankarat kemialliset puhdistusvaatimukset. Ultrapuhdas grafiittialustamme on ihanteellinen ohutkalvopinnoitusvaiheisiin, kuten MOCVD, epitaksisuskeptorit, pannukakku- tai satelliittialustoille sekä kiekkojen käsittelyyn, kuten etsaukseen. SiC-päällysteisellä kantoaineella on erinomaiset lämmönjako-ominaisuudet, korkea lämmönjohtavuus ja se on kustannustehokas.

Ota meihin yhteyttä jo tänään saadaksesi lisätietoja kiekkojen siirtoon tarkoitetusta PSS-käsittelytelineestämme.

PSS-käsittelyalustan parametrit kiekkojen siirtoa varten

CVD-SIC-pinnoitteen tärkeimmät tiedot
SiC-CVD-ominaisuudet
Kristallirakenne	FCC p-vaihe
Tiheys	g/cm³	3.21
Kovuus	Vickersin kovuus	2500
Raekoko	μm	2~10
Kemiallinen puhtaus	%	99.99995
Lämpökapasiteetti	J kg-1 K-1	640
Sublimaatiolämpötila	℃	2700
Feleksuaalinen voima	MPa (RT 4-piste)	415
Youngin Modulus	Gpa (4 pt bend, 1300 ℃)	430
Lämpölaajeneminen (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Lämmönjohtavuus	(W/mK)	300