- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
Yrityksen uutiset
Plasmaprosessit CVD-operaatioissa
Chemical Vapor Deposition (CVD) tarkoittaa prosessitekniikkaa, jossa useat kaasumaiset lähtöaineet vaihtelevissa osapaineissa käyvät läpi kemiallisen reaktion tietyissä lämpötila- ja paineolosuhteissa. Tuloksena oleva kiinteä aine saostuu substraattimateriaalin pinnalle, jolloin saadaan haluttu ohut......
Lue lisää
Piitaksiaaliset kerrokset ja substraatit puolijohteiden valmistuksessa
Nykyaikaisessa elektroniikassa, optoelektroniikan, mikroelektroniikan ja tietotekniikan aloilla puolijohdesubstraatit ja epitaksiaaliteknologiat ovat välttämättömiä. Ne tarjoavat vankan perustan tehokkaiden ja erittäin luotettavien puolijohdelaitteiden valmistukseen. Teknologian kehittyessä myös puo......
Lue lisää
Ensimmäinen 6 tuuman galliumoksidisubstraattia valmistava yritys
Äskettäin yrityksemme ilmoitti, että yritys on onnistuneesti kehittänyt 6 tuuman Gallium Oxide -yksikidekiteen valumenetelmällä, ja siitä tulee ensimmäinen kotimainen teollisuusyritys, joka hallitsee 6 tuuman Gallium Oxide -yksikidealustan valmistustekniikan.
Lue lisää
Lämpökentän eristysmateriaali
Yksikiteisen piin kasvuprosessi tapahtuu pääasiassa lämpökentässä, jossa lämpöympäristön laatu vaikuttaa merkittävästi kiteen laatuun ja kasvutehokkuuteen. Lämpökentän suunnittelulla on keskeinen rooli lämpötilagradienttien ja kaasun virtausdynamiikan muovaamisessa uunikammiossa. Lisäksi lämpökentän......
Lue lisää
