Grafiittikantaja epitaksiaalireaktoreille

Semicorex -grafiittikannut epitaksiaalireaktoreille on suunniteltu komponentti epitaksiaaliseen laskeutumiseen puolijohteiden valmistukseen. Tämä grafiittikantaja on valmistettu korkeasta puhtaasta grafiitista ja päällystetty tasaisesti sic: n kanssa. Tämä kantaja sisältää useita etuja, jotka vähentävät vastuun, kulumisen ja kyynelten ja paremman kemiallisen stabiilisuuden tarjoamisen syövyttävissä ympäristöissä ja myös korkeissa lämpötiloissa. Pohjapinnan pohjakaula -tiheä mikrohuokoisuus tarjoaa tasaiset kaasujakaumat kiekkojen pinnan yli kasvun aikana, joiden on oltava riittävän tarkka vikavapaiden kiteiden kerrosten tuottamiseksi.

SIC -päällystetty kantaja on keskittynyt vaakasuoraan tai pystysuoraan epitaksiaalireaktoreihin, olipa se erä tai yksi kiekko. Piilikarbidipinnoite suojaa grafiittia, nimet ED parantaa etsauskestävyyttä, on hapettumiskestävä ja myös lämpöshokki verrattuna päällystämättömään grafiittiin, joka mullistaa lähestymistavan, joka operaattoreiden on sijoitettava/sijoitettava monumentaalisesti hukkaan hukkaan, mikä tekee laajan ylläpidon/korvaamalla operaattorilla vähemmän väliintuloa käytettäessä lämmönvaiheen vaiheessa; Huoltoinfon kiirehtiminen kauhasta tai alaspäin RK: n hyvämaineisista polymeereistä, jotka kykenevät kantajan kanssa, ehkä vaihdetaan kerran kuin kaikki muu; Maksimoidakseen toiminnan tehokkuuden sen sijaan synnytyksen tai aikataulun mukaista huoltoa kohti.

Perusgrafiittialusta on valmistettu erittäin hienosta viljasta, korkean tiheyden materiaalista, mikä tarjoaa sisäänrakennetun mekaanisen stabiilisuuden ja mittastaauden äärimmäisen lämpökuormituksen alla. Hiilikerrokseen voidaan lisätä kiinteä, tarkka sic -pinnoite, joka käyttää kemiallista höyryn laskeutumista (CVD), jotka yhdessä tarjoavat suuren tiheyden, sileän, terävän ja nastareiän vapaan kerroksen, jolla on vahva pintasidos. Tämä voi tarkoittaa hyvää yhteensopivuutta prosessikaasujen ja reaktorin olosuhteiden kanssa, samoin kuin vähentynyttä kontaminaatiota ja vähemmän hiukkasia, jotka voivat vaikuttaa kiekkojen satoon.

Kantajan pohjassa oleva mikroreiän sijainti, etäisyys ja rakenne on suunniteltu edistämään tehokkainta ja tasaisinta kaasuvirtausta reaktorin pohjasta grafiittien kantoaalton rei'ityksen kautta sen yläpuolella oleviin kiekkoihin. Epitaksiaalisten kasvuprosessien grafiittikantajien tasainen kaasuvirta reaktorin pohjasta voi merkittävästi muuttaa prosessin hallintaa kerrospaksuuden ja seostusprofiilien prosessin hallintaa, etenkin kaasumaisissa yhdisteiden puolijohdeissa, kuten sic tai gan, joissa tarkkuus ja toistettavuus ovat ratkaisevan tärkeitä. Lisäksi rei'itystiheyden ja kuvion määritelmä on erittäin muokattavissa, määritelty kunkin yrityksen reaktorisuunnittelulla, ja perforointirakenne perustuu prosessin eritelmiin.

Semicorex -grafiittikantajat on suunniteltu ja valmistettu epitaksiaaliprosessiympäristön vaikeuksiin. Semicorex tarjoaa räätälöinnin kaiken kokoisille, reikäkuvioille ja päällystetyille paksuuksille integroitumaan saumattomasti olemassa oleviin laitteisiin. Talon sisäinen kyky valmistaa kantajia ja vaativa laadunvalvonta varmistavat tarkan, toistettavan suorituskyvyn, korkean puhtauden ratkaisut ja luotettavuuden, jota nykypäivän johtavat puolijohdevalmistajat vaativat.