Koti > Tuotteet > Piikarbidipinnoitettu > GaN SiC Epitaxyssa > GaN-on-SiC Epitaxial Wafers Carrier
GaN-on-SiC Epitaxial Wafers Carrier
  • GaN-on-SiC Epitaxial Wafers CarrierGaN-on-SiC Epitaxial Wafers Carrier
  • GaN-on-SiC Epitaxial Wafers CarrierGaN-on-SiC Epitaxial Wafers Carrier
  • GaN-on-SiC Epitaxial Wafers CarrierGaN-on-SiC Epitaxial Wafers Carrier
  • GaN-on-SiC Epitaxial Wafers CarrierGaN-on-SiC Epitaxial Wafers Carrier
  • GaN-on-SiC Epitaxial Wafers CarrierGaN-on-SiC Epitaxial Wafers Carrier

GaN-on-SiC Epitaxial Wafers Carrier

Semicorex on johtava itsenäisesti omistama piikarbidilla päällystetyn grafiitin, tarkkuuskoneistetun erittäin puhtaan grafiitin valmistaja, joka keskittyy puolijohteiden valmistuksen piikarbidipäällysteiseen grafiittiin, piikarbidikeramiikkaan ja MOCVP-alueisiin. GaN-on-SiC Epitaxial Wafers Carrierillamme on hyvä hintaetu ja se kattaa monet Euroopan ja Amerikan markkinat. Odotamme innolla tulevaa pitkäaikaiseksi kumppaniksesi Kiinassa.

Lähetä kysely

Tuotteen Kuvaus

Semicorex SiC Coating of GaN-on-SiC Epitaxial Wafers Carrier on tiheä, kulutusta kestävä piikarbidi (SiC) pinnoite. Sillä on korkeat korroosion- ja lämmönkestävyysominaisuudet sekä erinomainen lämmönjohtavuus. Levitämme piikarbidia ohuina kerroksina grafiitin päälle käyttämällä kemiallista höyrypinnoitusprosessia (CVD).
GaN-on-SiC Epitaxial Wafers Carrier on suunniteltu saavuttamaan paras laminaarinen kaasuvirtauskuvio, mikä varmistaa lämpöprofiilin tasaisuuden. Tämä auttaa estämään kontaminaatiota tai epäpuhtauksien leviämistä varmistaen korkealaatuisen epitaksiaalisen kasvun kiekon sirulla.
Ota yhteyttä jo tänään saadaksesi lisätietoja GaN-on-SiC Epitaxial Wafers Carrier -kiekkojen alustasta.


GaN-on-SiC Epitaxial Wafers Carrierin parametrit

CVD-SIC-pinnoitteen tärkeimmät tiedot

SiC-CVD-ominaisuudet

Kristallirakenne

FCC β -vaihe

Tiheys

g/cm³

3.21

Kovuus

Vickersin kovuus

2500

Jyvän koko

μm

2~10

Kemiallinen puhtaus

%

99.99995

Lämpökapasiteetti

J·kg-1 ·K-1

640

Sublimaatiolämpötila

2700

Feleksuaalinen voima

MPa (RT 4-piste)

415

Youngin moduuli

Gpa (4 pt bend, 1300â)

430

Lämpölaajeneminen (C.T.E)

10-6K-1

4.5

Lämmönjohtokyky

(W/mK)

300


GaN-on-SiC Epitaxial Wafers Carrierin ominaisuudet

- Vältä irroitumista ja varmista, että kaikki pinnat ovat pinnoitettuja
Korkean lämpötilan hapettumiskestävyys: Stabiili korkeissa lämpötiloissa aina 1600°C asti
Korkea puhtaus: valmistettu CVD-kemiallisella höyrypinnoituksella korkean lämpötilan kloorausolosuhteissa.
Korroosionkestävyys: korkea kovuus, tiheä pinta ja hienojakoisia hiukkasia.
Korroosionkestävyys: happo, alkali, suola ja orgaaniset reagenssit.
- Saavuta paras laminaarinen kaasuvirtauskuvio
- Takaa lämpöprofiilin tasaisuus
- Estä kontaminaatio tai epäpuhtauksien leviäminen




Hot Tags: GaN-on-SiC Epitaxial Wafers Carrier, Kiina, valmistajat, toimittajat, tehdas, räätälöity, irtotavarana, edistynyt, kestävä

Aiheeseen liittyvä luokka

Lähetä kysely

Ole hyvä ja lähetä kyselysi alla olevalla lomakkeella. Vastaamme sinulle 24 tunnin kuluessa.

Liittyvät tuotteet

We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept