AlN -lämmittimet

Semicorex ALN -lämmittimet puolijohdekauppaan on laite, jota käytetään puolijohdemateriaalien lämmittämiseen. Se on pääosin tehtyalumiinin nitride keraaminenMateriaalilla on erinomainen lämmönjohtavuus ja korkea lämpötilankestävyys, ja se voi toimia vakaasti korkeissa lämpötiloissa. Lämmitin käyttää yleensä vastusjohtoa lämmityselementtinä. Virtaamalla vastuslangan kuumenemiseksi, lämpö siirretään lämmittimen pintaan puolijohdemateriaalin lämmityksen saavuttamiseksi. Puolijohteiden alna -lämmittimillä on tärkeä rooli puolijohteiden tuotantoprosessissa, ja niitä voidaan käyttää prosesseissa, kuten kidekasvu, hehkutus ja leipominen.

Puolijohteiden valmistuksen käyttöliittymäprosessissa (FEOL) on suoritettava kiekkoon, etenkin kiekon lämmittämiseen tiettyyn lämpötilaan, ja on tiukat vaatimukset, koska lämpötilan yhtenäisyydellä on erittäin tärkeä vaikutus tuotteen satoon; Samanaikaisesti puolijohdelaitteiden on työskenneltävä myös ympäristössä, jossa on tyhjiö, plasma ja kemialliset kaasut, mikä vaatii keraamisten lämmittimien (keraaminen lämmitin) käyttöä. Keraamiset lämmittimet ovat tärkeitä komponentteja puolijohteen ohutkalvojen laskeutumislaitteissa. Niitä käytetään prosessikammiossa ja koskettaa kiekkoa suoraan kiekon kuljettamiseksi ja mahdollistamiseksi saamaan vakaan ja tasaisen prosessin lämpötilan ja reagoida ja tuottaa ohutkalvoja kiekkojen pinnalle, jolla on erittäin tarkkuus.

Keraamisten lämmittimien ohutkalvolaitteet käyttävät yleensä keraamisia materiaaleja, jotka perustuvatalumiininitridi (ALN)Kyseisten korkeiden lämpötilojen takia. Alumiininitridillä on sähköeristys ja erinomainen lämmönjohtavuus; Lisäksi sen lämpölaajennuskerroin on lähellä piitä, ja sillä on erinomainen plasmankestävyys, joten se on erittäin sopiva käytettäväksi puolijohdelaitteen komponenttina.

ALN -lämmittimiä ovat keraaminen pohja, joka kantaa kiekoa, ja lieriömäisen tuen elimistö, joka tukee sitä takana. Keraamisen emäksen sisällä tai pinnalla, vastuselementin (lämmityskerros) lisäksi lämmitystä varten, on myös RF -elektrodi (RF -kerros). Nopean lämmityksen ja jäähdytyksen saavuttamiseksi keraamisen pohjan paksuuden tulisi olla ohut, mutta liian ohut vähentää myös jäykkyyttä. ALN -lämmittimien tukirunko on yleensä valmistettu materiaalista, jonka lämpölaajennuskerroin on samanlainen kuin pohjan, joten tukirunko on usein myös alumiininitridistä. ALN -lämmittimet omaksuvat akselisen akselin (akselin) nivelpohjan rakenteen, joka suojaa päätteitä ja johtoja plasman ja syövyttävien kemiallisten kaasujen vaikutuksilta. Tukirungossa on lämmönsiirtokaasun sisääntulon ja poistoputki lämmittimen tasaisen lämpötilan varmistamiseksi. Pohja ja tukiryhmä on sidottu kemiallisesti sidoskerrokseen.

Lämmittimen pohjaan haudataan vastuslämmityselementti. Se muodostuu näytön tulostamisella johtavalla tahnalla (volframi, molybdeeni tai tantaali) spiraali- tai samankeskisen ympyrän piirikuvion muodostamiseksi. Tietysti voidaan käyttää myös metallilankaa, metalliverkkoa, metallikalvoa jne. Kun käytetään näytön tulostusmenetelmää, valmistetaan kaksi saman muodon keraamista levyä ja johtava tahna levitetään yhden pintaan. Sitten se sintrataan resistiivisen lämmityselementin muodostamiseksi, ja toinen keraaminen levy on päällekkäin resistiivisen lämmityselementin kanssa vastuselementin, joka on haudattu pohjaan.

Tärkeimmät tekijät, jotka vaikuttavat alumiininitridikeramiikan lämmönjohtavuuteen, ovat hilan tiheys, happipitoisuus, jauheen puhtaus, mikrorakenne jne., Jotka vaikuttavat alumiininitridikeramiikan lämmönjohtavuuteen.