SiC Barrel Silicon Epitaxylle

Semicorex SiC Barrel For Silicon Epitaxy on rakennettu piikarbidilla (SiC) päällystetystä grafiittimateriaalista. Tämä ainutlaatuinen rakenne varmistaa erinomaisen lämpöiskujen ja kemiallisen hajoamisen kestävyyden, pidentää suskeptorin käyttöikää ja ylläpitää prosessin luotettavuutta.

Edistyksellinen SiC Barrel For Silicon Epitaxy -pinnoite tarjoaa erinomaisen lämmönjohtavuuden ja lämmön jakautumisen, mikä edistää tasaisia ​​lämpötilaprofiileja koko suskeptorissa. Tämä parantaa prosessin hallintaa, minimoi lämpögradientteja ja varmistaa tasaisen epitaksiaalisen kerroksen kasvun, mikä johtaa korkealaatuisiin piikalvoihin, joilla on poikkeuksellisen tasainen ja puhdas.

SiC Barrel For Silicon Epitaxy voidaan räätälöidä vastaamaan erityisiä vaatimuksia ja mieltymyksiä. Kokosäädöstä pinnoitteen paksuuden vaihteluihin tarjoamme suunnittelussa joustavuutta erilaisten prosessiparametrien mukauttamiseksi ja suorituskyvyn optimoimiseksi tiettyihin sovelluksiin.

SiC Barrel For Silicon Epitaxy tarjoaa luotettavuutta ja pitkäikäisyyttä vähentäen seisokkeja ja huoltokustannuksia, jotka liittyvät toistuviin vaihtoihin. Sen vankka rakenne ja poikkeuksellinen suorituskyky parantavat prosessin tehokkuutta, mikä lopulta lisää tuottavuutta ja puolijohdevalmistuksen kustannustehokkuutta.