Semicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor on erittäin kestävä ja luotettava tuote epiksiaalisten kerrosten kasvattamiseen kiekkolastuille. Sen korkean lämpötilan hapettumisenkestävyys ja korkea puhtaus tekevät siitä sopivan käytettäväksi puolijohdeteollisuudessa. Sen tasainen lämpöprofiili, laminaarinen kaasuvirtauskuvio ja kontaminaation esto tekevät siitä ihanteellisen valinnan korkealaatuiseen epiksiaalikerroksen kasvattamiseen.
Lue lisääLähetä kysely