MOCVD tyhjiökammion kansi

Kiteen kasvatuksessa ja kiekkojen käsittelyssä käytettävän MOCVD-tyhjiökammion kannen on kestettävä korkeita lämpötiloja ja kovaa kemiallista puhdistusta. Semicorex-piikarbidilla päällystetty MOCVD-tyhjiökammion kansi, joka on suunniteltu erityisesti näihin haastaviin ympäristöihin. Tuotteillamme on hyvä hintaetu ja ne kattavat monet Euroopan ja Amerikan markkinat. Odotamme innolla tulevaa pitkäaikaiseksi kumppaniksesi Kiinassa.

Lähetä kysely

Tuotteen Kuvaus

Semicorex Graphite -komponentit ovat erittäin puhdasta piikarbidilla päällystettyä grafiittia, jota käytetään prosessissa yksikide- ja kiekkoprosessin kasvattamiseen. MOCVD Vacuum Chamber Lid Compound -yhdistelmällä on korkea lämmön- ja korroosionkestävyys, ne kestävät haihtuvien esiastekaasujen, plasman ja korkean lämpötilan yhdistelmän.

Semicorexilla olemme sitoutuneet tarjoamaan asiakkaillemme korkealaatuisia tuotteita ja palveluita. Käytämme vain parhaita materiaaleja, ja tuotteemme on suunniteltu täyttämään korkeimmat laatu- ja suorituskykyvaatimukset. MOCVD-tyhjiökammion kansi ei ole poikkeus. Ota yhteyttä jo tänään saadaksesi lisätietoja siitä, kuinka voimme auttaa sinua puolijohdekiekkojen käsittelytarpeissasi.

MOCVD-tyhjiökammion kannen parametrit

CVD-SIC-pinnoitteen tärkeimmät tiedot
SiC-CVD-ominaisuudet
Kristallirakenne	FCC p-vaihe
Tiheys	g/cm³	3.21
Kovuus	Vickersin kovuus	2500
Raekoko	μm	2~10
Kemiallinen puhtaus	%	99.99995
Lämpökapasiteetti	J kg-1 K-1	640
Sublimaatiolämpötila	℃	2700
Feleksuaalinen voima	MPa (RT 4-piste)	415
Youngin Modulus	Gpa (4 pt bend, 1300 ℃)	430
Lämpölaajeneminen (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Lämmönjohtavuus	(W/mK)	300