Tuotteet

View as  
 
SiC-pinnoitettu PSS-etsausteline

SiC-pinnoitettu PSS-etsausteline

Epiksiaalisessa kasvussa ja kiekkojen käsittelyssä käytettävien kiekkojen kantajien on kestettävä korkeita lämpötiloja ja kovaa kemiallista puhdistusta. Semicorex SiC Coated PSS Etching Carrier on suunniteltu erityisesti näihin vaativiin epitaksilaitesovelluksiin. Tuotteillamme on hyvä hintaetu ja ne kattavat monet Euroopan ja Amerikan markkinat. Odotamme innolla tulevaa pitkäaikaiseksi kumppaniksesi Kiinassa.

Lue lisääLähetä kysely
SiC-pinnoitettu piippuvaskeptori LPE-epitaksiaaliseen kasvuun

SiC-pinnoitettu piippuvaskeptori LPE-epitaksiaaliseen kasvuun

Semicorex SiC Coated Barrel Susceptor for LPE Epitaxial Growth on korkean suorituskyvyn tuote, joka on suunniteltu tarjoamaan tasaisen ja luotettavan suorituskyvyn pitkän ajan. Sen tasainen lämpöprofiili, laminaarinen kaasuvirtauskuvio ja kontaminaation esto tekevät siitä ihanteellisen valinnan korkealaatuisten epitaksiaalisten kerrosten kasvattamiseen kiekkosiruille. Sen muokattavuus ja kustannustehokkuus tekevät siitä erittäin kilpailukykyisen tuotteen markkinoilla.

Lue lisääLähetä kysely
Barrel Receiver Epi System

Barrel Receiver Epi System

Semicorex Barrel Susceptor Epi System on korkealaatuinen tuote, joka tarjoaa erinomaisen pinnoitteen tarttuvuuden, korkean puhtauden ja hapettumisenkestävyyden korkeissa lämpötiloissa. Sen tasainen lämpöprofiili, laminaarinen kaasuvirtauskuvio ja kontaminaation esto tekevät siitä ihanteellisen valinnan epiksiaalisten kerrosten kasvattamiseen kiekkolastuilla. Sen kustannustehokkuus ja muokattavuus tekevät siitä erittäin kilpailukykyisen tuotteen markkinoilla.

Lue lisääLähetä kysely
Liquid Phase Epitaxy (LPE) -reaktorijärjestelmä

Liquid Phase Epitaxy (LPE) -reaktorijärjestelmä

Semicorex Liquid Phase Epitaxy (LPE) Reactor System on innovatiivinen tuote, joka tarjoaa erinomaisen lämpösuorituskyvyn, tasaisen lämpöprofiilin ja erinomaisen pinnoitteen tarttuvuuden. Sen korkea puhtaus, korkean lämpötilan hapettumisenkestävyys ja korroosionkestävyys tekevät siitä ihanteellisen valinnan käytettäväksi puolijohdeteollisuudessa. Sen muokattavissa olevat vaihtoehdot ja kustannustehokkuus tekevät siitä erittäin kilpailukykyisen tuotteen markkinoilla.

Lue lisääLähetä kysely
CVD:n epitaksiaalinen kerrostuminen tynnyrireaktoriin

CVD:n epitaksiaalinen kerrostuminen tynnyrireaktoriin

Semicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor on erittäin kestävä ja luotettava tuote epiksiaalisten kerrosten kasvattamiseen kiekkolastuille. Sen korkean lämpötilan hapettumisenkestävyys ja korkea puhtaus tekevät siitä sopivan käytettäväksi puolijohdeteollisuudessa. Sen tasainen lämpöprofiili, laminaarinen kaasuvirtauskuvio ja kontaminaatioesto tekevät siitä ihanteellisen valinnan korkealaatuiseen epiksiaalikerroksen kasvattamiseen.

Lue lisääLähetä kysely
Piin epitaksiaalinen kerrostuminen tynnyrireaktoriin

Piin epitaksiaalinen kerrostuminen tynnyrireaktoriin

Jos tarvitset korkean suorituskyvyn grafiittisuskeptoria käytettäväksi puolijohteiden valmistussovelluksissa, Semicorex Silicon Epitaxial Deposition In Barrel Reactor on ihanteellinen valinta. Sen erittäin puhdas SiC-pinnoite ja poikkeuksellinen lämmönjohtavuus tarjoavat erinomaiset suoja- ja lämmönjakoominaisuudet, mikä tekee siitä parhaan vaihtoehdon luotettavan ja tasaisen suorituskyvyn takaamiseksi haastavimmissakin ympäristöissä.

Lue lisääLähetä kysely
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept