Epiksiaalisessa kasvussa ja kiekkojen käsittelyssä käytettävien kiekkojen kantajien on kestettävä korkeita lämpötiloja ja kovaa kemiallista puhdistusta. Semicorex SiC Coated PSS Etching Carrier on suunniteltu erityisesti näihin vaativiin epitaksilaitesovelluksiin. Tuotteillamme on hyvä hintaetu ja ne kattavat monet Euroopan ja Amerikan markkinat. Odotamme innolla tulevaa pitkäaikaiseksi kumppaniksesi Kiinassa.
Lue lisääLähetä kyselySemicorex SiC Coated Barrel Susceptor for LPE Epitaxial Growth on korkean suorituskyvyn tuote, joka on suunniteltu tarjoamaan tasaisen ja luotettavan suorituskyvyn pitkän ajan. Sen tasainen lämpöprofiili, laminaarinen kaasuvirtauskuvio ja kontaminaation esto tekevät siitä ihanteellisen valinnan korkealaatuisten epitaksiaalisten kerrosten kasvattamiseen kiekkosiruille. Sen muokattavuus ja kustannustehokkuus tekevät siitä erittäin kilpailukykyisen tuotteen markkinoilla.
Lue lisääLähetä kyselySemicorex Barrel Susceptor Epi System on korkealaatuinen tuote, joka tarjoaa erinomaisen pinnoitteen tarttuvuuden, korkean puhtauden ja hapettumisenkestävyyden korkeissa lämpötiloissa. Sen tasainen lämpöprofiili, laminaarinen kaasuvirtauskuvio ja kontaminaation esto tekevät siitä ihanteellisen valinnan epiksiaalisten kerrosten kasvattamiseen kiekkolastuilla. Sen kustannustehokkuus ja muokattavuus tekevät siitä erittäin kilpailukykyisen tuotteen markkinoilla.
Lue lisääLähetä kyselySemicorex Liquid Phase Epitaxy (LPE) Reactor System on innovatiivinen tuote, joka tarjoaa erinomaisen lämpösuorituskyvyn, tasaisen lämpöprofiilin ja erinomaisen pinnoitteen tarttuvuuden. Sen korkea puhtaus, korkean lämpötilan hapettumisenkestävyys ja korroosionkestävyys tekevät siitä ihanteellisen valinnan käytettäväksi puolijohdeteollisuudessa. Sen muokattavissa olevat vaihtoehdot ja kustannustehokkuus tekevät siitä erittäin kilpailukykyisen tuotteen markkinoilla.
Lue lisääLähetä kyselySemicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor on erittäin kestävä ja luotettava tuote epiksiaalisten kerrosten kasvattamiseen kiekkolastuille. Sen korkean lämpötilan hapettumisenkestävyys ja korkea puhtaus tekevät siitä sopivan käytettäväksi puolijohdeteollisuudessa. Sen tasainen lämpöprofiili, laminaarinen kaasuvirtauskuvio ja kontaminaatioesto tekevät siitä ihanteellisen valinnan korkealaatuiseen epiksiaalikerroksen kasvattamiseen.
Lue lisääLähetä kyselyJos tarvitset korkean suorituskyvyn grafiittisuskeptoria käytettäväksi puolijohteiden valmistussovelluksissa, Semicorex Silicon Epitaxial Deposition In Barrel Reactor on ihanteellinen valinta. Sen erittäin puhdas SiC-pinnoite ja poikkeuksellinen lämmönjohtavuus tarjoavat erinomaiset suoja- ja lämmönjakoominaisuudet, mikä tekee siitä parhaan vaihtoehdon luotettavan ja tasaisen suorituskyvyn takaamiseksi haastavimmissakin ympäristöissä.
Lue lisääLähetä kysely