Suomi
Koti > Uutiset

Uutiset

Tekoälyn ja fysiikan fuusio: CVD:n teknologinen innovaatio Nobel-palkinnon takana

Tekoälyn ja fysiikan fuusio: CVD:n teknologinen innovaatio Nobel-palkinnon takana

Äskettäin julkistettu vuoden 2024 fysiikan Nobelin palkinto on tuonut ennennäkemättömän paljon huomiota tekoälyn alaan.

Lue lisää
Puolijohteiden dopingprosessi

Puolijohteiden dopingprosessi

Yksi puolijohdemateriaalien ainutlaatuisista ominaisuuksista on, että niiden johtavuus sekä niiden johtavuustyyppi (N-tyyppi tai P-tyyppi) voidaan luoda ja ohjata doping-nimisellä prosessilla. Tämä sisältää erikoistuneiden epäpuhtauksien, jotka tunnetaan nimellä seostusaineet, lisäämisen materiaalii......

Lue lisää
PECVD-prosessi

PECVD-prosessi

Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) on laajalti käytetty tekniikka sirun valmistuksessa. Se hyödyntää plasmassa olevien elektronien kineettistä energiaa kemiallisten reaktioiden aktivoimiseksi kaasufaasissa, jolloin saavutetaan ohutkalvokerrostuminen.

Lue lisää
Vikojen havaitseminen piikarbidikiekkojen käsittelyssä

Vikojen havaitseminen piikarbidikiekkojen käsittelyssä

Piikarbidi-substraatit ovat piikarbiditeollisuuden tärkein komponentti, ja niiden osuus sen arvosta on lähes 50 %. Ilman piikarbidialustoja on mahdotonta valmistaa piikarbidilaitteita, joten ne ovat olennainen materiaaliperusta.

Lue lisää
Mikä on Dummy Wafer

Mikä on Dummy Wafer

Dummy Wafer on erikoiskiekko, jota käytetään ensisijaisesti konelaitteiden täyttämiseen kiekkojen valmistusprosessin aikana.

Lue lisää
GaN:n sovellus

GaN:n sovellus

Galliumnitridiä (GaN) on monenlaisia, joista piipohjainen GaN on eniten keskusteltu. Tämä tekniikka sisältää GaN-materiaalien kasvattamisen suoraan piisubstraatille.

Lue lisää
<...56789...37>
Paina ENTER EAKSI TAI ESC sulkeaksesi
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept