ICP-plasmaetsauslevy

Semicorexin ICP Plasma Etching Plate tarjoaa erinomaisen lämmön- ja korroosionkestävyyden kiekkojen käsittelyyn ja ohutkalvopinnoitusprosesseihin. Tuotteemme on suunniteltu kestämään korkeita lämpötiloja ja kovaa kemiallista puhdistusta, mikä takaa kestävyyden ja pitkäikäisyyden. Puhtaalla ja sileällä pinnalla telineemme sopii täydellisesti koskemattomien kiekkojen käsittelyyn.

Lähetä kysely

Tuotteen Kuvaus

Kun on kyse ohutkalvopinnoituksesta ja kiekkojen käsittelystä, luota Semicorexin ICP-plasmaetsauslevyyn. Tuotteemme tarjoaa erinomaisen lämmön- ja korroosionkestävyyden, tasaisen lämmön tasaisuuden ja optimaaliset laminaariset kaasuvirtauskuviot. Puhtaalla ja sileällä pinnalla telineemme sopii täydellisesti koskemattomien kiekkojen käsittelyyn.

ICP-plasmaetsauslevymme on suunniteltu saavuttamaan paras laminaarinen kaasuvirtauskuvio, mikä varmistaa lämpöprofiilin tasaisuuden. Tämä auttaa estämään kontaminaatiota tai epäpuhtauksien leviämistä varmistaen korkealaatuisen epitaksiaalisen kasvun kiekon sirulla.

Ota yhteyttä jo tänään saadaksesi lisätietoja ICP-plasmaetsauslevystämme.

ICP-plasmaetsauslevyn parametrit

CVD-SIC-pinnoitteen tärkeimmät tiedot
SiC-CVD-ominaisuudet
Kristallirakenne	FCC p-vaihe
Tiheys	g/cm³	3.21
Kovuus	Vickersin kovuus	2500
Raekoko	μm	2~10
Kemiallinen puhtaus	%	99.99995
Lämpökapasiteetti	J kg-1 K-1	640
Sublimaatiolämpötila	℃	2700
Feleksuaalinen voima	MPa (RT 4-piste)	415
Youngin Modulus	Gpa (4 pt bend, 1300 ℃)	430
Lämpölaajeneminen (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Lämmönjohtavuus	(W/mK)	300