Etsaus rengas

CVD SiC:stä valmistettu etsausrengas on olennainen komponentti puolijohteiden valmistusprosessissa, ja se tarjoaa poikkeuksellisen suorituskyvyn plasmaetsausympäristöissä. CVD SiC:n ylivoimainen kovuus, kemiallinen kestävyys, lämpöstabiilisuus ja korkea puhtaus takaavat, että etsausprosessi on tarkka, tehokas ja luotettava. Valitsemalla Semicorex CVD SiC -etsausrenkaat puolijohdevalmistajat voivat pidentää laitteidensa käyttöikää, vähentää seisokkeja ja parantaa tuotteidensa yleistä laatua.*

Lähetä kysely

Tuotteen Kuvaus

Semicorex Etching Ring on kriittinen komponentti puolijohteiden valmistuslaitteissa, erityisesti plasmaetsausjärjestelmissä. Tämä kemiallisesta höyrypinnoituspiikarbidista (CVD SiC) valmistettu komponentti tarjoaa erinomaisen suorituskyvyn erittäin vaativissa plasmaympäristöissä, joten se on välttämätön valinta tarkkuusetsausprosesseihin puolijohdeteollisuudessa.

Syövytysprosessi, joka on perustavanlaatuinen vaihe puolijohdelaitteiden luomisessa, vaatii laitteita, jotka kestävät ankaria plasmaympäristöjä huonontamatta. Syövytysrengas, joka on sijoitettu osaksi kammiota, jossa plasmaa käytetään etsaamaan kuvioita piikiekkoihin, on ratkaisevassa roolissa tässä prosessissa.

Syövytysrengas toimii rakenteellisena ja suojaavana esteenä, mikä varmistaa, että plasma pysyy sisällä ja ohjataan juuri sinne, missä sitä tarvitaan etsausprosessin aikana. Kun otetaan huomioon plasmakammioiden äärimmäiset olosuhteet, kuten korkeat lämpötilat, syövyttävät kaasut ja hankaava plasma, on olennaista, että etsausrengas on valmistettu materiaaleista, jotka tarjoavat poikkeuksellisen kulumisen ja korroosionkestävyyden. Tässä CVD SiC (Chemical Vapor Deposition Silicon Carbide) todistaa arvonsa etsausrenkaiden valmistukseen.

CVD SiC on edistynyt keraaminen materiaali, joka tunnetaan erinomaisista mekaanisista, kemiallisista ja lämpöominaisuuksistaan. Nämä ominaisuudet tekevät siitä ihanteellisen materiaalin käytettäväksi puolijohteiden valmistuslaitteissa, erityisesti etsausprosessissa, jossa suorituskykyvaatimukset ovat korkeat.

Korkea kovuus ja kulutuskestävyys:

CVD SiC on yksi kovimmista saatavilla olevista materiaaleista, toiseksi vain timantti. Tämä äärimmäinen kovuus tarjoaa erinomaisen kulutuskestävyyden, joten se pystyy kestämään plasmaetsauksen ankaran, hankaavan ympäristön. Syövytysrengas, joka on alttiina jatkuvalle ionien pommitukselle prosessin aikana, voi säilyttää rakenteellisen eheytensä pidempään verrattuna muihin materiaaleihin, mikä vähentää vaihtojen tiheyttä.

Kemiallinen inertisyys:

Yksi etsausprosessin tärkeimmistä huolenaiheista on plasmakaasujen, kuten fluorin ja kloorin, syövyttävä luonne. Nämä kaasut voivat aiheuttaa merkittävää hajoamista materiaaleissa, jotka eivät ole kemiallisesti kestäviä. CVD SiC on kuitenkin poikkeuksellisen kemiallinen inertti, erityisesti plasmaympäristöissä, jotka sisältävät syövyttäviä kaasuja, mikä estää puolijohdekiekkojen kontaminoitumisen ja varmistaa etsausprosessin puhtauden.

Lämpöstabiilisuus:

Puolijohteiden syövytysprosessit tapahtuvat usein korkeissa lämpötiloissa, mikä voi aiheuttaa lämpörasitusta materiaaleihin. CVD SiC:llä on erinomainen lämmönkestävyys ja alhainen lämpölaajenemiskerroin, minkä ansiosta se säilyttää muotonsa ja rakenteellisen eheytensä jopa korkeissa lämpötiloissa. Tämä minimoi lämpömuodonmuutosriskin ja varmistaa tasaisen etsaustarkkuuden koko valmistussyklin ajan.

Korkea puhtaus:

Puolijohteiden valmistuksessa käytettävien materiaalien puhtaus on äärimmäisen tärkeää, koska mikä tahansa kontaminaatio voi vaikuttaa negatiivisesti puolijohdelaitteiden suorituskykyyn ja tuottoon. CVD SiC on erittäin puhdasta materiaalia, joka vähentää epäpuhtauksien joutumisen riskiä valmistusprosessiin. Tämä edistää suurempia saantoja ja parempaa kokonaislaatua puolijohteiden tuotannossa.

CVD SiC:stä valmistettua etsausrengasta käytetään ensisijaisesti plasmaetsausjärjestelmissä, joita käytetään etsaamaan monimutkaisia kuvioita puolijohdelevyille. Nämä kuviot ovat välttämättömiä luotaessa mikroskooppisia piirejä ja komponentteja, joita löytyy nykyaikaisista puolijohdelaitteista, mukaan lukien prosessorit, muistisirut ja muu mikroelektroniikka.