Reunarenkaat

Semicorex Edge -renkaat ovat kriittinen osa koko puolijohdevalmistusprosessia, etenkin kiekkojen prosessointisovelluksissa, mukaan lukien plasman etsaus ja kemiallinen höyryn laskeuma (CVD). Edolenkaat on suunniteltu ympäröimään puolijohdekiekon ulkokehää energian jakautumiseksi tasaisesti samalla parantaen prosessin vakautta, kiekkojen satoa ja laitteen luotettavuutta. Edolenkaamme on valmistettu korkean puhtaan kemiallisesta höyryn laskeutumisesta piikarbidista (CVD SIC) ja ne on rakennettu vaativiin prosessiympäristöihin.

Plasmapohjaisten prosessien aikana ilmenee ongelmia, joissa energian epäyhtenäisyys ja plasman vääristymä kiekon reunalla aiheuttaa vikojen, prosessien siirtymisen tai satohäviön riskin. Edge -renkaat minimoivat tämän riskin keskittymällä ja muotoilemalla energiakenttää kiekon ulkokehän ympärille. Edolen renkaat istuvat aivan kiekon ulkoreunan ulkopuolella ja toimivat prosessiesteinä ja energiaoppaina, jotka minimoivat reunavaikutukset, suojaavat kiekkojen reunaa ylikuormitukselta ja tarjoavat välttämättömän lisä yhdenmukaisuuden kiekkojen pinnan yli.

CVD SIC: n aineelliset edut:

Edolenkaamme on valmistettu High Fount CVD SIC: stä, joka on suunniteltu ainutlaatuisesti ja suunnitellaan ankariin prosessiympäristöihin. CVD -sic: lle on ominaista poikkeuksellinen lämmönjohtavuus, suuri mekaaninen lujuus ja erinomainen kemiallinen vastus - kaikki ominaisuudet, jotka tekevät CVD -sic: stä valittujen materiaalien puolijohdesovelluksille, jotka vaativat kestävyyttä, vakautta ja alhaisia saastumisongelmia.

Korkea puhtaus: CVD-sic: llä on lähes nolla-epäpuhtaudet, mikä tarkoittaa, että hiukkasia on vähän tai ei mitään, eikä metallikontaminaatiota, joka on välttämätöntä edistyneissä solmujen puolijohteissa.

Lämpöstabiilisuus: Materiaali ylläpitää mitat stabiilisuutta kohonneissa lämpötiloissa, mikä on ratkaisevan tärkeää, jotta kiekkojen sijoittaminen on oikeassa asemassa plasmassa.

Kemiallinen inertti: Se on inertti syövyttäville kaasuille, kuten sellaisille, jotka sisältävät fluoria tai klooria, joita käytetään yleisesti plasman etsausympäristössä sekä CVD -prosesseissa.

Mekaaninen lujuus: CVD -sic kestää halkeilua ja eroosiota pidennetyn sykli -ajanjaksojen aikana, mikä varmistaa maksimaalisen käyttöiän ja minimoimalla ylläpitokustannukset.

Jokainen reunasengas on räätälöity prosessikammion geometristen mittojen ja kiekon koon mukauttamiseksi; Tyypillisesti 200 mm tai 300 mm. Suunnittelutoleranssit otetaan erittäin tiukasti sen varmistamiseksi Mukautetut geometriat ja pintapintaiset ovat käytettävissä ainutlaatuisten OEM -vaatimusten tai työkalukokoonpanojen täyttämiseksi.