Keraamiset sähköstaattiset istukat

Keraamiset sähköstaattiset istukatovat tarkkuuskomponentteja, jotka käyttävät elektrodien ja kiekkojen välistä sähköstaattista kenttää kiinnittääkseen ja kiinnittääkseen kiekkoja. Niitä käytetään laajalti sellaisilla aloilla kuin puolijohteet, litteät näytöt ja optiikka, ja ne ovat huippuluokan laitteiden, kuten PVD-laitteiden, etsauskoneiden ja ioni-istuttimien, ydinkomponentteja.

Verrattuna perinteisiin mekaanisiin istukkaisiin ja tyhjiöistoihin, keraamisilla sähköstaattisilla istukkailla on monia etuja puolijohteiden valmistuksessa. Tämä keraaminen sähköstaattinen istukka käyttää staattista sähköä tasoittaakseen ja pitääkseen kiekot tasaisesti pinnallaan. Tämä yhtenäinen adsorptiovoima voi pitää adsorboidun kohteen suhteellisen tasaisena välttäenvohvelivääntyminen tai muodonmuutos, joka voi johtua perinteisistä mekaanisista istukkaista taityhjiöistukatja varmistaa, että kiekko säilyttää käsittelytarkkuuden, joka sopii erittäin tarkkoihin puolijohdeprosesseihin.

Joissakin keraamisissa sähköstaattisissa istukkaissa on integroidut lämmitystoiminnot, jotka voivat ohjata kiekkojen lämpötilaa tarkasti takaisinpuhalluskaasun tai sisäisten lämmityselektrodien avulla, mukautua eri prosessien tiukoihin lämpötilavaatimuksiin ja parantaa käsittelyn vakautta.

Toisin kuin mekaaniset istukat, keraamiset sähköstaattiset istukat vähentävät mekaanisia liikkuvia osia, vähentävät hiukkasmaisten epäpuhtauksien vaikutusta kiekkojen laatuun, suojaavat tehokkaasti kiekon pinnan puhtautta ja parantavat tuotteen saantoa.

Keraamiset sähköstaattiset istukat tarjoavat laajan yhteensopivuuden. Niihin mahtuu erikokoisia ja eri materiaaleista valmistettuja kiekkoja, mukaan lukien pii, galliumarsenidi ja piikarbidi, ja ne täyttävät erilaiset puolijohteiden valmistustarpeet.

Ne voivat toimia vakaasti suurissa tyhjiöympäristöissä, kuten ioni-implantaatiossa ja CVD:ssä, ylittäen perinteisten tyhjiöistukkaiden rajoitukset, jotka eivät pysty absorboimaan kiekkoja tyhjiöympäristössä, ja täyttävät täydellisesti ioni-istutuksen, kemiallisen höyrypinnoituksen (CVD) ja muiden puolijohteiden valmistuksen prosessien vaatimukset.