TaC-pinnoite upokas

Semicorex TaC-pinnoitusupokkaan tärkeimmät edut puolijohdekiteiden kasvussa:

Erittäin puhdasta huippuluokkaa kristallilaatua:Erittäin puhtaan isostaattisen grafiitin ja kemiallisesti inertin TaC-pinnoitteen yhdistelmä minimoi riskin epäpuhtauksien huuhtoutumisesta sulatteeseen. Tämä on ensiarvoisen tärkeää korkean suorituskyvyn puolijohdelaitteiden poikkeuksellisen materiaalin puhtauden saavuttamiseksi.

Tarkka lämpötilan säätö kristallin tasaisuutta varten:Isostaattisen grafiitin yhtenäiset lämpöominaisuudet, joita parantaa TaC-pinnoite, mahdollistavat tarkan lämpötilan hallinnan koko sulatteessa. Tämä TaC-Coating Cruciblen tasaisuus on ratkaisevan tärkeää kiteytysprosessin ohjaamiseksi, vikojen minimoimiseksi ja homogeenisten sähköisten ominaisuuksien saavuttamiseksi kasvaneissa kiteissä.

Upokkaan pidennetty käyttöikä prosessitalouden parantamiseksi:Vankka TaC-pinnoite tarjoaa poikkeuksellisen kestävyyden kulumista, korroosiota ja lämpöshokkia vastaan, mikä pidentää merkittävästi TaC-Coating Cruciblen käyttöikää verrattuna pinnoittamattomiin vaihtoehtoihin. Tämä merkitsee vähemmän upokkaan vaihtoa, lyhyempiä seisokkeja ja parantunutta yleistä prosessitaloudellisuutta.

Kehittyneiden puolijohdesovellusten käyttöönotto:

Edistyksellinen TaC-Coating Crucible on saamassa kasvavaa käyttöä seuraavan sukupolven puolijohdemateriaalien kasvussa:

Yhdistetyt puolijohteet:TaC-Coating Cruciblen tarjoama valvottu ympäristö ja kemiallinen yhteensopivuus ovat välttämättömiä monimutkaisten yhdistepuolijohteiden, kuten galliumarsenidin (GaAs) ja indiumfosfidin (InP) kasvulle, joita käytetään suurtaajuuselektroniikassa, optoelektroniikassa ja muissa vaativissa sovelluksissa. .

Korkean sulamispisteen materiaalit:TaC-Coating Cruciblen poikkeuksellinen lämmönkestävyys tekee siitä ihanteellisen korkean sulamispisteen puolijohdemateriaalien, mukaan lukien piikarbidin (SiC) ja galliumnitridin (GaN), kasvattamiseen, jotka mullistavat tehoelektroniikan ja muut korkean suorituskyvyn sovellukset.