TaC-pinnoitettu planeettalevy

Semicorex TaC -pinnoitettu planeettalevy toimii avainkomponenttina MOCVD-reaktoreissa, ja sen planeettarakenne on tunnusomaista sen pintaa pitkin järjestetyistä lukuisista kiekkotaskuista. Nämä taskut on erityisesti luotu sovittamaan kiekot luotettavasti minkä tahansa epitaksiaalikerroksen kasvuvaiheessa, stabiloimalla substraattikiekkoja ja minimoiden alustan liikkeen korkeissa prosessilämpötiloissa. Tarkka taskugeometria tarjoaa tasaisen kiekkojen sijoittelun, mikä on tärkeää epitaksiaalisten kerrosten tasaisen paksuuden ja substraattivirheiden tasaisuuden kannalta kaikille saman prosessin aikana kasvatetuille kiekkoille.

Tärkeä planeettalevyn suunnittelunäkökohta on jälleen kerran hienojen kaasuvirtausaukkojen dispersio levyn pintaa pitkin. Nämä reiät on suunniteltu huolellisesti ja strategisesti sijoitettu erityisesti mittaamaan esiastekaasujen virtausta reaktorissa, joten kaasun tasainen leviäminen ja tasainen kerrostuminen saavutetaan jokaisen kiekon välillä. Kaikissa MOCVD-prosessissa kaasudynamiikan näkökohdat ovat kriittisiä määritettäessä kalvon ominaisuuksia, paksuuden tasaisuutta ja laitteen yleistä suorituskykyä. Optimoitu reiän muotoiluTaC päällystettyPlanetary Plate varmistaa, että kaikki kiekot kokevat samat prosessiolosuhteet, mikä tarjoaa optimaalisen tavan parantaa tuottoa ja toistettavuutta.

TheTaC (tantaalikarbidi) pinnoitepidentää entisestään planeettalevyn suorituskykyä ja käyttöikää. Tantaalikarbidi on erittäin kovaa, kemiallisesti inerttiä ja lämpöä johtavaa, joten se on erinomainen pinnoite äärimmäisiin MOCVD-ympäristöihin. Epitaksian aikana reaktorin komponentit kohtaavat korkeita lämpötiloja, reaktiivisia esiastekaasuja ja plasmaaltistusta. TaC-pinnoite toimii vankana korroosion, hapettumisen ja hiukkasten syntymisen estona, mikä pidentää merkittävästi planeettalevyn käyttöikää kuin pinnoittamaton tai perinteisesti päällystetty levy.

TaC päällystetty Planetary Plate -levyn pitkäikäisyys ja kestävyys tekevät siitä kustannustehokkaan valinnan MOCVD-järjestelmiin. Kestävä TaC-kerros kestää toistuvaa lämpökiertoa ja altistumista äärimmäisille prosessikaasuille säilyttäen samalla rakenteellisen eheyden ja suorituskyvyn vakauden toimiessaan pitkiä aikoja.